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昆山浦元为您解读镀膜机工作原理

作者: 来源: 日期:2016-03-04 15:57:36 人气:4139

 

       真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。今天,昆山浦元真空技术工程有限公司为您介绍以下几种镀膜机工作原理:
    

        一、空心阴极离子镀原理

               在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1-10-2)在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。

        二、测控溅射工作原理

              先将真空室预抽至10-3Pa,然后通入气体(如氩气),气压为1-10 Pa时,给靶加负电压,产生辉光放电,电子在电场正作用下加速飞向基片时,与氩原子碰撞,电离出Ar和另一个电子;轰击靶材,由二次电子电离的 越来越多,不断轰击靶材;磁场改变电子的运动方向,以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率。

        三、多弧离子镀工作原理

               其工作原理为冷阴极自持弧光放电,其物理基础为场致发射。被镀材料接阴极,真空室接阳极,真空室抽为高真空时,引发电极启动器,接触拉开,此时,阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电,阴极表面布满飞速游动的阴极斑,部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源,以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。

        四、电阻蒸发式镀膜机

               膜材即要镀的材料放于蒸发舟中,置于真空室中,抽到一定真空时,通过电阻加热膜材,使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时,原子和分子从蒸发源中逸出后,到达基片形成膜。为了使膜厚均匀,可以利用电机带动基片旋转,并用膜厚仪控制膜厚,制出优质膜。

        五、E型枪工作原理

               阴极灯丝加热后发射具有0.3    EV初动能的热电子,这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。在电磁线圈的磁场中,电子束沿E x B的方向偏转,通过阴极时,电子的能量提高到10KV,通过阳极电子偏转270度角而入射坩埚内的膜材表面上,轰击膜材使其蒸发。

        六、PCVD镀膜工作原理

               将被镀件放在低压辉光放电的阴极上,通入适当气体,在一定温度下,利用化学反应和离子轰击相结合的过程,在工件表面获得涂层。

       昆山浦元真空技术工程有限公司将膜层工艺、设备研发、制造生产、销售、服务集于一体,致力于为企业、科研院所、薄膜涂层加工中心等提供有竞争力的综合解决方案和服务。我公司将竭诚为您服务,欢迎国内外新老客户莅临参观、指导并洽谈业务!

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