真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。今天，昆山浦元真空技术工程有限公司为您介绍以下几种镀膜机工作原理：
    

        一、空心阴极离子镀原理

               在本底真空为高真空的条件下，由阴极中通入氩器气（1-10-2）在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压，使氩气发生辉光放电，在空心阴极内产生低压等离子体放电，阴极温度升高到2300-2400K时，由冷阴极放电转为热阴极放电，开始热电子发射，放电转为稳定状态。通入反应气体，可以制化合膜。

        二、测控溅射工作原理

              先将真空室预抽至10-3Pa，然后通入气体（如氩气），气压为1-10 Pa时，给靶加负电压，产生辉光放电，电子在电场正作用下加速飞向基片时，与氩原子碰撞，电离出Ar和另一个电子；轰击靶材，由二次电子电离的 越来越多，不断轰击靶材；磁场改变电子的运动方向，以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率。

        三、多弧离子镀工作原理

               其工作原理为冷阴极自持弧光放电，其物理基础为场致发射。被镀材料接阴极，真空室接阳极，真空室抽为高真空时，引发电极启动器，接触拉开，此时，阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电，阴极表面布满飞速游动的阴极斑，部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源，以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。

        四、电阻蒸发式镀膜机

               膜材即要镀的材料放于蒸发舟中，置于真空室中，抽到一定真空时，通过电阻加热膜材，使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时，原子和分子从蒸发源中逸出后，到达基片形成膜。为了使膜厚均匀，可以利用电机带动基片旋转，并用膜厚仪控制膜厚，制出优质膜。

        五、E型枪工作原理

               阴极灯丝加热后发射具有0.3    EV初动能的热电子，这些热电子在灯丝阴极与阳极之间的电场作用下加速并会聚成束状。在电磁线圈的磁场中，电子束沿E x B的方向偏转，通过阴极时，电子的能量提高到10KV，通过阳极电子偏转270度角而入射坩埚内的膜材表面上，轰击膜材使其蒸发。

        六、PCVD镀膜工作原理

               将被镀件放在低压辉光放电的阴极上，通入适当气体，在一定温度下，利用化学反应和离子轰击相结合的过程，在工件表面获得涂层。

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