对于真空镀膜机设备的分类，到底了解多少？
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜设备，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、
MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。

主要是分成蒸发和溅射两种。
在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。
基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。

真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，
并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、
磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。
夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。