昆山浦元真空

中文|English|设为首页

昆山浦元真空

新闻中心

微信二维码微信扫一扫 关注浦元最新动态！

技术知识

当前位置：首页|新闻中心

射频磁控溅射

作者：　来源：　日期：2021-04-26 8:57:00　人气：2216

用来进行介质膜的溅射，如在玻璃上镀ITO膜之前需镀上一层SiO2扩散隔离层，该SiO2膜就是采用射频溅射。 

通常在溅射过程中辉光放电中的离子撞击到阴极时，会与阴极的电子中和，是的溅射现象可以继续进行。

但若靶材本身不导电的话，离子撞击到靶材上没有电子中和，

正电荷一直累积，使与后来的离子排斥，这会造成取代直流电源，使可解决此离子撞击现象的停顿。

上一个：现代真空镀膜机膜厚的测量及监控方法
友情链接： 三菱伺服电机　 铁件镀锡　 粉尘检测仪　 钢筋桁架楼承板　 环氧自流平施工　 红木家具　 法兰盘　 水稳搅拌站　 端子截面分析仪　 铍铜板　
版权所有 © 昆山浦元真空技术工程有限公司 Copyright 2016 All Rights Reserved
　 技术支持：昆山果橙网络　 苏ICP备16002609号-1　 后台登陆　网站地图  XML