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射频磁控溅射

作者：　来源：　日期：2021-04-26 8:57:00　人气：1573

用来进行介质膜的溅射，如在玻璃上镀ITO膜之前需镀上一层SiO2扩散隔离层，该SiO2膜就是采用射频溅射。 

通常在溅射过程中辉光放电中的离子撞击到阴极时，会与阴极的电子中和，是的溅射现象可以继续进行。

但若靶材本身不导电的话，离子撞击到靶材上没有电子中和，

正电荷一直累积，使与后来的离子排斥，这会造成取代直流电源，使可解决此离子撞击现象的停顿。

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