微信扫一扫 关注浦元最新动态!

技术知识

当前位置:首页|新闻中心

真空镀膜设备原理

作者: 来源: 日期:2016/5/26 15:04:25 人气:995

        电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜.二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在*近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上.

        磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量.

       电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿.但一般基片与真空室及阳极在同一电势.磁场与电场的交互作用(E X B shift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动.至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状.磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系.

       在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射,多弧镀靶源,离子源,等离子源等都在次原理下工作.所不同的是电场方向,电压电流大小而已.

下一个:镀膜设备维护
友情链接: 昆山代理记账  中国五金商机网  中国制造网  马可波罗  0460网站之家  本地搜  中国供应商  浦元真空---工厂网国内站  昆山浦元真空技术工程有限公司  Kun Shan Puyuan Vacuum Technol…  百鸣网  昆山浦力真空科技有限公司  昆山浦元真空技术工程有限公司 
版权所有 © 昆山浦元真空技术工程有限公司 Copyright 2016 All Rights Reserved
  技术支持:昆山果橙网络  苏ICP备16002609号  后台登陆
联系人:成先生  手机:13405154202  电话:0512-50107855  邮箱:971635211@qq.com   地址:江苏省昆山市张浦镇俱巷路136号