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真空镀膜设备气体分布

作者: 来源: 日期:2020-11-16 10:09:43 人气:24431

气体的分布状况对于平板基片镀膜来说是极其重要的,通过机械结构设计,使气体密度的变化率在溅射沉积区域内的尽量小。

而在区域外,使系统的流导尽量的大,以提高气体的利用率和抽气系统的效率。

控制气体分布的机械部件或结构包括布气系统、真空室的结构、抽气系统等三个部分。

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