真空镀膜设备气体分布

气体的分布状况对于平板基片镀膜来说是极其重要的，通过机械结构设计，使气体密度的变化率在溅射沉积区域内的尽量小。

而在区域外，使系统的流导尽量的大，以提高气体的利用率和抽气系统的效率。

控制气体分布的机械部件或结构包括布气系统、真空室的结构、抽气系统等三个部分。