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什么是PVD?

作者: 来源: 日期:2017-10-21 18:09:35 人气:5214

      

        PVD是物理气相沉积的缩写。物理气相沉积描述了各种真空沉积方法,其可广泛用于在诸如塑料,玻璃,金属,陶瓷等的不同基底上生产薄膜和涂层. PVD的特征在于其中材料从固态到气态,然后回到薄膜固态。最常见的PVD工艺是离子,溅射,电子束和蒸发。 PVD用于制造需要用于机械,光学,化学或电子功能的薄膜的物品。

  工业常见PVD涂层如CuAlCrAuNi的纯金属膜,和TiNTiCTiCNTiAlNZrNCrNCrSiNZrTiCNTiAlCNZrCTiALNDLC等复合膜。

常见PVD真空镀膜机:

阴极电弧离子PVD真空镀膜机:靶材在放电的高功率电弧作用下将其上物质喷射沉积在工件上。

电子束PVD真空镀膜机:待沉积的材料,在“高”真空中的电子轰击中,冷凝沉积在工件上。

蒸发PVD真空镀膜机:待沉积的材料,在“高”真空中,通过电阻加热,冷凝沉积在工件上。

磁控溅射PVD真空镀膜机:发出辉光等离子体放电(通常通过磁体定位在“靶”周围),材料溅射沉积在工件上。

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